公开号：	US2006209286A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	浸式曝光技术
摘要：	一个曝光设备经过一个分划板对基底进行曝光。该设备吧阔一个基底平台，其用于支撑和移动基底，一个投影光学系统，其用于将分划板模型投影到基底上，一个带表面的平板，其重量和基底平台上的可移动基底基本相同，一个带有供给喷嘴的供给装备，其通过供给喷嘴对位于光学成像系统的后表面和基底平台支撑的基底和平板中的空隙填充液体，一个覆盖部分，其有一个覆盖喷嘴，通过喷嘴覆盖填充缝隙的液体填充物，和一个位于平板的传感器，用于测量照度。