公开号：	US2006244943A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光系统
摘要：	在曝光系统对表面带有光敏涂层的基板进行曝光，曝光系统包括：一个机械装置，一个基底，上面带有基底单元和曝光设备，在基底上基底单元与曝光设备能够靠近移动，以致由于这种运动能够使光敏涂层被曝光，并且希望光敏涂层的曝光越精确越好，曝光装置有一个光学胶片，它在另一个方向上移动，为了对基底单元进行曝光，在光学胶片上有一个光学成像装置，曝光装置有一个光源单元，具有多路光源的光源单元安装在机械结构上并与光学胶片分开，它所发出的光背耦合到光学成像系统中。