公开号：	US2006219913A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	测量
专利名：	长度测量样品，半导体设备，以及制造半导体设备的方法
摘要：	长度测量样品式用于各自带有光阻的扩散层和低层形成相互联系。长度测量样品包括视作在长度测量SEM中长度测量对象的第一样品（16），以及与第一样品（16）有一定距离间隔的第二样品（17），用于对长度测量SEM进行对位和聚焦。