公开号：	US7342640B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	曝光设备和手段
摘要：	本专利是一个曝光设备，它在投射光学系统和充满液体的基底有一个间隔并将基底暴露于光下。设备有一个平台来支撑并移动平台，一个为间隔提供液体的供应单元，一个从间隔回收液体的回收单元，在至少一个基底和平台上检测液滴的检测器，一个移动基底上被检测器检测到液滴的移动单元，移动单元包括一个垂直挤进基底的狭缝喷嘴并从狭缝中鼓吹基底上的气体，一个计算至少一个检测到的液体的位置和尺寸的计算单元，一个基于计算单元计算结果来控制喷嘴和基底间相对速度的控制器。