公开号：	US7372542B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	浸入式曝光技术
摘要：	本专利是通过分划板将基质暴露在光下的曝光装置。装置包括了一个托起且移动基质的基质平台，将分划板图案投影到基质上的投影光学系统，与被基质平台托起的基质有同样高度的表面的平板，有供应喷嘴且通过喷嘴向投影光学系统的最终表面，以及至少一个供应液体的供应单元，它在被基质平台托起的基质及平板形成的间隙中，有一个回收喷嘴并通过它回收充满间隙的液体的回收单元，位于平板上并测量照度的感应器。