公开号：	US7403338B2
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	光学
专利名：	用于投影光刻的微透镜与其准备方法
摘要：	本专利涉及在表面微透镜列产生良好响应的系统和手段，它包括嵌入式或被支撑元件支持的微型光学元件并放置于距表面必要的距离，该距离等同于包含间隔元件的微型光学元件的像距。微透镜列能够控制入射能和辐射，在规定目标模式于基底表面形成一个对应图像模式上有所贡献。能量可以是模式光或者特定波长光,集中光、偏振光或相干队列。毫米量级的对应物产生的图像模式拥有尺寸小于或等于100nm的特征。目标模式的尺寸可通过用一个100及以上的系数单步产生图像模式而被微透镜列缩小。