公开号：	US2007238185A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	控制和材料分析
专利名：	在硅体的氧化物层的有效共焦的激光显微学
摘要：	在聚合物阵列上的共焦显微学的形成方法配置在硅晶片基板上，这个方法被提出来，包括以下步骤：提供有顶部和底部的硅晶片基板，在硅晶片的顶部涂上一层氧化膜以便提供一个氧化涂层晶片，将多元探针共价耦合到硅晶片的顶部以便提供一个固定聚合物阵列，将固定聚合物阵列和多元标记配体进行杂交，并且使用激光共聚焦荧光显微镜分析一个或多个杂交配体从而检测杂种培植。