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企业难题需求
公开号: US2006256351A1
大类:国外
行业类型:仪器
行业内分类:测量
专利名: 测量装置,特别用于真空系统中的投射测定法
摘要:一种测量装置,特别用于透明即偏低额投射测定法,包括一个具有发出光束的发光元件和一个记录入射光束的光接收元件的一个测量头、以及一个用来反射发出的光线的回射器。该测量装置允许投射测定法在透明基片上进行只需要一个反射光测量头。该装置也运行投射测定法在例如不透明的基片或者倾斜测头以及盖住回射器的情况下工作。该测量装置只需要一个测量头,因此可以以更高的性价比制造。它不需要校准,因为回射器在斜入射情况下和由于操作或运行因素(震动等)造成的位置改变的发生时也反射初始方向的光。
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