公开号：	US2006211344A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	控制和材料分析
专利名：	半导体器件处理系统的化学稀释系统
摘要：	稀释阶段适应于为半导体处理设备提供化学稀释。稀释阶段包括一个容器用于储存稀释后的化学剂和第二个容器用于储存稀释前的。稀释阶段可能还包括一个控制机制，用于选择性控制化学剂的流动和对第一个容器的dilutant。该控制机制可能将第二个容器填满了化学剂，并通过第二个容器涌出dilutant到第一个容器。