公开号：	US2006211129A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	控制和材料分析
专利名：	多组分流体的实时监测元件和补给系统
摘要：	多组分流体的组成有监测和控制系统，其中一个组件的分析受滴定分析或其他分析方法影响，一个或多个组成部分，计算方法则是用来确定和分别多组分流体中一个或多个成分的量或比例，以保持多组分流体组成的预定的成分特征。该系统被用于半导体制造光刻胶和后去除刻蚀残留物中，其中清洗介质是一种半水溶剂成分，水是用作监测和相应调整的组成部分。