公开号：	US2008268379A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	高分子化合物
专利名：	具有乙烯基二羰基化合物结构的聚合物抗反射涂层及在光刻蚀中的应用
摘要：	本专利提供了一种用于光刻蚀的抗反射涂层聚合物和溶剂，具有乙烯基二羰基化合物结构的涂层聚合物到抗反射涂层的形成；使用这种涂层组合物到形成光致抗蚀性的方法；这种抗反射涂层可以用在光刻蚀过程如半导体器件制造业，对光反射有有效的预防效果，避免了内部混合光阻剂，比光阻剂有更高的刻蚀速度。