公开号：	US2007054823A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	涂料黏合剂
专利名：	使用超临界的CO和二酮添加剂祛除蚀刻残留物和来自低K电介质的铜污染
摘要：	该专利提供了去除蚀刻残留物和来自低K电介质的铜污染的方法和组成成分，还有使用超临界的CO2和二酮添加剂的基底。通过使用这个专利的方法，在非传导性的腐蚀剂中形成的铜残留物用高效地被去除。这里提供了各种各样的生产过程条件，以便例证去污机制。