| 摘要： | EUV光源装置和方法被研究出来，这可能包括提供一个脉冲激光在选定的脉冲重复频率脉冲激光在点火现场为重点的理想目标，一个目标，形成系统提供在与激光脉冲重复间隔离散协调选定目标率;目标转向系统形成系统的中间目标和期望的目标点火遗址和目标跟踪系统提供有关目标之间形成系统和转向系统的目标运动信息的目标，使目标转向系统直接目标到所需的目标点火现场。目标跟踪系统可提供信息，使激光发射的控制信号生成，并可能包括一小滴探测器组成一个平行光源指示相交于一个目标预计交付路径1点，有各自的相反处理光检测器检测通过各自的点通过的目标，或一个探测器包括一个光敏感元件多元线性阵列对准一个坐标轴，从光线相交的目标预计交付路径光源，至少有一其中可能包括在一个平面拦截检测装置。液滴探测器可能涉及的液滴探测器在一个个不同的光的频率，或者有一个摄像头的视场经营和两维的像素阵成像视场的多元化。该仪器和方法可能包括静电控制设备提供等离子或接近1时的点火时间目标站点的电点火等离子体约束领域，与跟踪系统，提供一个有利的信号控制设备的静电离子控制目标。该仪器和方法可能包括一个低压允许超紫外线光通过过滤器和中间有一个容器壁和维护整个低压压差陷阱。该仪器和方法可能包括一个磁等离子体约束机制创造了目标点火现场附近一磁场等离子体局限于点火到目标站点，这可能是控制脉冲，可能是使用产出的目标跟踪系统。 |