公开号：	US2007102651A1
大类：	国外
行业类型：	仪器
行业内分类：	医学技术
专利名：	改善角度线特征的准确度和产量通过电子束蚀刻和电子束曝光系统
摘要：	本发明介绍通过电子束蚀刻降低写入时间以形成有角和没角特性的面具模式的方法。具体体现在，没角模式形成于曝光于电子束。长方形镜头的基板和路径的从电子束的方向会相对改变，以致基板曝光在电子束来形成有角特性，而好像形成无角特性。另外体现在，电子束光刻系统决定是否必要形成有角特性模式根据有角特性的数量和改变需要的时间。电子束曝光系统采用可旋转台，旋转孔等。