公开号：	US2006166139A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	高分子化合物
专利名：	有机防反射涂层的组成及光阻图像的形成方法
摘要：	本发明涉及一种有机防反射涂层的组成和光阻图像的形成方法。这种防反射涂层组成对于低膜层或者光阻膜基底防反射很有作用，降低光和光阻材料自身厚度变化所产生的驻波，增加光阻图像的均一性。更具体地说，本发明涉及一种有机防反射涂层的组成，特别是包括有机硅基础聚合物和光阻图像的形成方法。有机防反光涂层组成可以防止反射膜形成的过度吸光率，因此，减少薄膜的反射率，以便它可以有效去除驻波和提高光阻图案均一性。