公开号：	US2006159938A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	高分子化合物
专利名：	制备含有聚合物纳米粒子的低介电薄膜所使用的组合物及制备低介电薄膜的方法
摘要：	本发明提出了用来制备低介电薄膜的组合物，它的组成包括硅烷聚合物、聚合物纳米粒子、成孔剂和有机溶剂，以及使用这一组合物制备低介电薄膜的方法。使用上述公开的组合物制备出来的低介电薄膜，它具有低介电常数和良好的机械强度。同时，在低介电薄膜中的聚合物纳米粒子粒径均匀而且柔韧性好，因此它有利于化学机械的抛光处理。