公开号：	US7442213B2
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	高分子化合物
专利名：	包含聚合物体系的清洁组分用于清洗位点的方法。
摘要：	本发明涉及稳定的包括聚阴离子和改性的聚胺的聚合物体系。当这种聚合物体系用于清洁成分时，这种清洁成分表现出惊人的抗土再沉积和美白能力。