公开号：	US2006166139A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	涂料黏合剂
专利名：	用于光刻胶图案的有机减反射涂层的组成和制作方法
摘要：	本发明涉及一种有机抗反射涂层的组成和形成光刻胶图案的方法。防反射涂层成分用于光刻胶的较低层或基底的反射，较少了光和光刻胶自身厚度变化引起的驻波，并增加光刻胶图案的均匀性。更具体地说，本发明涉及一种有机抗反射图层的组成，特别是包括有机硅聚合物和形成光刻胶图案的方法及应用。有机抗反射涂层成分可以防止反射膜形成的过度吸收，因此，减少薄膜的反射可以有效去除驻波和提高光刻胶图案的均匀性。