公开号：	US2007066066A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	涂料黏合剂
专利名：	衬底的抛光方法
摘要：	玻璃衬底的抛光方法需要有极高的表面平滑度和表面精度，玻璃衬底可以用于如极紫外光刻的反射掩模。以二氧化硅为主要构成元素玻璃衬底的表面的抛光可以用含有平均粒度最多50纳米的硅胶及ph值调整为0.5到4的酸水组成的浆料来完成，这样表面粗糙度使用原子力显微镜测量将不超过0.15纳米。