公开号：	US2007082833A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	涂料黏合剂
专利名：	用于硅的化学机械抛光的低成本，低蝶形缺陷浆料
摘要：	这种方法和混合物被提供用于基片表面的低蝶形缺陷平面化处理。此发明所提供的方法所用的混合物由一种矾土和二氧化铈组成的混合腐蚀物及一种用于基片化学机械平面化的，能消除多晶硅的表面活性剂。