公开号：	US2007298611A1
大类：	国外
行业类型：	化学
行业内分类：	表面加工应用材料
专利名：	化学机械中的选择性阻挡泥浆
摘要：	本发明介绍的是一种对半导体基板抛光很有用的含水抛光合成物。该合成物含有比重为0.005%至50%的研磨料和0.001%至5%超微型卡拉胶。这种超微型卡拉胶对提高钽，氮化钽及其他含钽材料的过滤速率有明显效果。